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极紫外(EUV)波长的下一代光刻技术
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极紫外光刻(英语:Extreme ultra-violet,也称EUV或EUVL)是一种使用极紫外(EUV)波长的下一代光刻技术,其波长为13.5纳米,预计将于2020年得到广泛应用。几乎所有的光学材料对13.5nm波长的极紫外光都有很强的吸收,因此,EUV光刻机的光学系统只有使用反光镜。
极紫外光刻的实际应用比原先估计的将近晚了10多年。
小程序到:仪器加,仪器难点攻克方案聚集网
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1楼
2021-04-28 10:26
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科技实验方案输出小程序:仪器加,满足了解科研行情
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