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来咯无图
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求镀膜大佬来解答下疑惑镀,半导体薄膜在射频溅射过程中分为两部操作,我的具体工艺是450摄氏度溅射3min,分为两部的话,第一是先溅射10s,然后升高温度到550并且保温一段时间,然后降低到450再溅射后续薄膜,这样做出来的薄膜比我正常一口气450摄氏度溅射出来的3min薄膜电导率提高很多,很不一样。想求一个具体原因。
贴吧用户_7aQM4t1
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温度改变了电阻率
廷天涯
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第一层膜的电导率高了
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