二硫化钨靶材采用99.95%高纯度的WS2粉末,通过精准控制的热压烧结工艺制成致密靶盘。通过各类溅射沉积技术,在金属、陶瓷、工程塑料等材料表面形成独特的层状WS2自润滑薄膜。该WS2靶材制备的涂层,具有极佳的润滑性、低摩擦系数等特性,大幅提高表面材料的抗磨耐摩性
二硫化钨靶材采用99.95%高纯度的WS2粉末,通过精准控制的热压烧结工艺制成致密靶盘。通过各类溅射沉积技术,在金属、陶瓷、工程塑料等材料表面形成独特的层状WS2自润滑薄膜。该WS2靶材制备的涂层,具有极佳的润滑性、低摩擦系数等特性,大幅提高表面材料的抗磨耐摩性
