如何清洗保养单晶硅生产应用的超纯水设备?
　　什么是单晶硅呢?它是一种半导体材料，其导电能力介于导体和绝缘体之间，主要应用于太阳能电池行业。在单晶硅的生产过程中我们要对其进行清洗，而清洗单晶硅时需要使用不含杂质的超纯水进行清洗，那么，超纯水设备就是一种可制备超纯水，出水电阻率高且不含任何杂质的设备。
　　目前主要的超纯水系统设计的主要工艺为双级反渗透与EDI相结合的制水工艺，具有水利用率高，运行可靠，经济合理等特点。那么，制备单晶硅清洗用水的超纯水设备在长时间工作后，如果不定期进行维护，就很容易被污染，因此要对该设备进行“呵护”，才能保证设备出水水质符合要求。
　　如何，清洗保养超纯水设备呢?
　　1、将专用清洗液与纯净水在清洗药箱内混合。
　　2、用清洗泵低流量将清洗液以低流速、低压力打至膜系统，并排走原水，防止清洗液稀释。
　　3、保持设备温度稳定，用清洗泵将清洗液在系统中循环。
　　4、清洗液在设备内浸泡一小时即可，污染较严重的膜系统可进行更长时间的浸泡清洗。
　　5、用清洗泵大流量打入清洗液30—60分钟，使膜表面上被洗掉的污染物随高流速水冲走。
　　6、用清水将清洗液冲去。设备冲洗后的清水需要保证pH值6.5-7.5之间。
　　综上，单晶硅清洗应用的超纯水设备具有结构设计相对靠紧，占地面积小，应用范围广等特点，但只有定期清洗才能够连续稳定地制备品质优良的超纯水，保证设备更长久的运行。
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　　光伏电池生产应用的超纯水设备，优势如何?
　　从1958年，中国研制的硅单晶开始，我国光伏发电的篇章正式开始，直到今日我国光伏发电已经成熟。光伏电池的生产离不开超纯水，其中硅片的切割与清洗就是需要大量的超纯水，而超纯水的质量好坏与否影响着硅片的质量，从而影响光伏电池的生产。
　　为了满足其用水需求，达到符合标准的水质，EDI超纯水设备采用UF系统、Ryperm系统在结合EDI装置的工艺，来制备高品质超纯水。其中，UF系统一般采用0.03μm的公称膜孔，这样可以去除细菌、病毒、颗粒物质包括胶体，以保护后续膜系统工艺;而Ryperm系统，主要是利用逆渗透原理除去水中溶解盐类、有机物、胶体、大分子物质等，降低水中溶解态离子含量。该系统回收率高、废水排放量少，出水电导率≤2±1μs/cm;而EDI装置则是利用阳、阴离子膜对阳、阴离子的选择透过作用以及离子交换树脂对水中离子的交换作用，在电场的作用下实现水中离子的定向迁移，从而达到水的深度净化除盐，并通过水电解产生的氢离子和氢氧根离子对装填树脂进行连续再生，可连续制取超纯水。
　　EDI超纯水设备因光伏发电产业的不断发展，该设备的需求量也在增加，同时对于水质要求也一直努力做到“优以上”，努力为光伏发电产业连续稳定地输出高质量的超纯水。
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