最近本人尝试用磁控溅射设备镀铟铋合金薄膜（In2Bi），但是镀出来的膜根本不导电,SEM图上看是颗粒状生长的，利用AFM查看粗糙度，粗糙度也非常差，可能根本没有成膜。
本人需要让合金薄膜尽可能薄（最好不超过10nm)
具体生长条件:
功率:15W
工作气压:0.8Pa
生长时间: 1min 每长10S后冷却5min（因为铟铋合金熔点只有90度，不敢生长时间太长）
PS:已经尝试过0.5Pa-4w 0.2Pa-6w 0.8Pa-6w 0.8Pa-15W，均不可成膜。
请问各位大神，要怎么改善生长条件才能让铟铋合金成膜呢？
下附AFM图