光刻流程的步骤【sqcat吧】_百度贴吧

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光刻流程的步骤

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光刻流程的步骤：衬底预处理、匀胶、前烘、对位曝光、显影、后烘、腐蚀、除胶

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IP属地:上海

来自Android客户端1楼2024-06-16 18:53回复

前烘和后烘的目的
前烘：去除胶膜中的溶剂，增强粘附性，提高膜的机械强度。后烘：去除显影后胶膜内残留的溶液，增加胶膜与衬底间粘附性，使光刻胶更致密，抗蚀性更强。

IP属地:上海

2楼2024-06-16 19:10

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